肇庆市杰瑞设备有限公司专业制造
真空镀膜设备使用、原理简介、存在问题、及解决方法：
旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。
? 当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，湖州市镀膜机，钟罩内被镀件PVDF膜转动。
? 开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内（设有1、 2、 3、 4孔，可插入任意一孔）。
? 右手旋转右侧调压器手轮，慢慢旋转升压
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真空镀膜设备使用、原理简介、存在问题、及解决方法：
主要分类
主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，立旋溅射式镀膜机，磁控溅射，MBE分子束外延，钯金溶体镀膜机，溶胶凝胶法等等 。
一、对于蒸发镀膜：
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
厚度均匀性主要取决于：
1。基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3. 蒸发功率，速率
4. 真空度
5. 镀膜时间，厚度大小。
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