肇庆市杰瑞设备有限公司专业制造
真空镀膜设备使用、原理简介、存在问题、及解决方法：
晶向均匀性：
1。晶格匹配度
2。 基片温度
3。蒸发速率
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），镀金真空膜，晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
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真空镀膜设备使用、存在问题、及解决方法：
电控柜操作
1. 开水泵、气源。
2. 开总电源。
3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，绍兴市真空膜，等待其值小于10后，真空膜机，再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，旋转真空膜，开前机和
高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。
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