中边层镀膜机,肇庆真空设备,镀膜机

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真空镀膜设备使用、存在问题、及解决方法：

化学成分编辑

薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性，中边层镀膜机，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，镀膜机，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空精门镀膜机，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，眼镜片镀膜机，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。

3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下

 

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真空镀膜设备使用、原理简介、存在问题、及解决方法：

 

左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

? 旋转发射调节钮“4”，使高压真空表“5”内指针指向5。

? 发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。

? 旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。

? 发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。

? 旋转标准调节钮“3”，让高压真空表“5”内指针指向10。

 

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